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本发明公开一种改善光刻胶线条边缘粗糙度的方法，包括以下步骤：沉积步骤，在图形化后的光刻胶结构的表面均匀沉积一定厚度的有机薄膜；刻蚀步骤，对所述有机薄膜进行各向同性刻蚀；以及判断步骤，判断所述光刻胶的线条边缘粗糙度是否达到预设值，如果判断为否...
该专利属于江苏鲁汶仪器有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏鲁汶仪器有限公司授权不得商用。

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