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本发明涉及一种去污清洁剂，其组成为表面活性剂、偏硅酸钠、杀菌剂、辅助剂，其中表面活性剂的组成为三聚磷酸钠、十二醇硫酸钠或烷基苯磺酸钠、聚氧乙烯烷基酚醚，偏硅酸钠主要选五水偏硅酸钠（Ｎａ↓［２］ＳｉＯ↓［３］．５Ｈ↓［２］Ｏ）或无水偏硅酸钠（...
该专利属于张兰鹤所有，仅供学习研究参考，未经过张兰鹤授权不得商用。

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