温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种厚光刻胶高均匀性坚膜方法，该方法包括:将涂胶晶圆水平放置在热板或热台上，在第一阶段，单次定时顺时针旋转晶圆，旋转晶圆180°后低温烘烤光刻胶；在第二阶段，定时顺时针旋转晶圆，旋转晶圆90°后高温烘烤光刻胶；在第三阶段，按多段...
该专利属于上海超导科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海超导科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。