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本发明公开一种利用真空磁控溅射镀膜技术制备锂电池C‑Si负极涂层的方法，该方法包括如下步骤：选取光面铜箔，按所使用的真空磁控溅射镀膜设备装载尺寸进行分切；设置真空磁控溅射镀膜设备的Si阴极靶与C阴极靶的安装位置，使Si阴极靶溅射的Si等离子...
该专利属于深圳市烯谷能源控股有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市烯谷能源控股有限公司授权不得商用。

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