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本实用新型公开了一种直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层制备设备，属于金刚石薄膜制备技术领域。其包括等离子炬，所述等离子炬的中心设置有阴极，所述阴极设置在引弧嘴的内部，阴极与引弧嘴之间设置有阳极通道，阳极通道上设置有氩气喷嘴，引弧嘴的外部周围设...
该专利属于上海征世科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海征世科技有限公司授权不得商用。

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