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本实用新型涉及一种烧成气氛可控的陶瓷烧制窑炉，属于陶瓷烧制技术领域。本实用新型的陶瓷烧制窑炉包括烧制区域和气氛控制区域之间的气体通路，主要包括区域之间气体通路，新风进气，气体排风，气流内循环通路，气流外循环通路等。本实用新型解决了电窑内部无...
该专利属于杭州志在材料科技有限公司;清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过杭州志在材料科技有限公司;清华大学授权不得商用。

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