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公开了用于使用二次离子质谱(SIMS)的半导体计量和表面分析的系统和方法。在实例中，二次离子质谱(SIMS)系统包括样品台。一次离子束被引导至样品台。提取透镜对准样品台。配置提取透镜为从样品台上的样品发射的二次离子提供低提取场。磁扇区光谱仪...
该专利属于瑞沃拉公司所有，仅供学习研究参考，未经过瑞沃拉公司授权不得商用。

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