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本发明提供一种改善多晶硅表面平坦度的方法，该方法包括下述步骤：在柔性基板上镀上缓冲层；在缓冲层上依次沉积SiNx层、SiOx层、非晶硅层；对非晶硅层的表面进行清洗，再对非晶硅层的表面采用准分子激光退火处理，制备得到多晶硅层；在多晶硅层的表面...
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