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本发明公开了一种过孔的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：1)选取设置有第一过孔的绝缘层，第一过孔沿绝缘层垂向布置；2)在第一过孔的底部和侧壁上以及绝缘层的顶部均涂覆无机膜；3)刻蚀涂覆在第一过孔底部和侧壁上的无机膜以及绝缘层的顶部的无机膜...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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