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本发明涉及一种二氧化硅光学薄膜消光系数确定方法，属于光学薄膜技术领域。本发明将SiO2薄膜等效为纯SiO2和亚氧化物的混合物，构建光学常数物理模型，获得较高精度的消光系数测试，确定了SiO2光学薄膜消光系数，解决了极低消光系数的SiO2薄膜...
该专利属于天津津航技术物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过天津津航技术物理研究所授权不得商用。

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