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本发明公开了一种用于钽阻挡层的化学机械抛光浆料，其包括研磨颗粒Ａ、比研磨颗粒Ａ的尺寸大的研磨颗粒Ｂ、三唑类化合物、有机酸和载体。本发明的化学机械抛光浆料可以使缺陷、划伤、粘污和其它残留明显下降，且通过使用不同尺寸颗粒来调节阻挡层和氧化物层的...
该专利属于安集微电子(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子(上海)有限公司授权不得商用。

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