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本发明公开了一种蓝宝石衬底材料高去除速率的控制方法。本发明方法使用粒径１５～４０ｎｍ的ＳｉＯ↓［２］磨料、ｐＨ值为１１～１３．５的抛光液，在４０～６０℃温度、４０～１２０ｒｐｍ转速、０．１０～０．２０ＭＰａ、１００～５０００ｍｌ／ｍｉｎ流量...该专利属于天津晶岭微电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津晶岭微电子材料有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种蓝宝石衬底材料高去除速率的控制方法。本发明方法使用粒径１５～４０ｎｍ的ＳｉＯ↓［２］磨料、ｐＨ值为１１～１３．５的抛光液，在４０～６０℃温度、４０～１２０ｒｐｍ转速、０．１０～０．２０ＭＰａ、１００～５０００ｍｌ／ｍｉｎ流量...