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本发明公开了一种化学作用强、粗糙度低、无划伤，且成本低的蓝宝石衬底材料表面粗糙度的控制方法。本发明选用碱性介质、粒径１５～４０ｎｍＳｉＯ↓［２］磨料、ｐＨ值１１～１３．５、ＦＡ／Ｏ等型表面活性剂来制备抛光液。用两步抛光法，在同一台抛光机上第...该专利属于天津晶岭微电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津晶岭微电子材料有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种化学作用强、粗糙度低、无划伤，且成本低的蓝宝石衬底材料表面粗糙度的控制方法。本发明选用碱性介质、粒径１５～４０ｎｍＳｉＯ↓［２］磨料、ｐＨ值１１～１３．５、ＦＡ／Ｏ等型表面活性剂来制备抛光液。用两步抛光法，在同一台抛光机上第...