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本实用新型公开一种抗光衰炉，包括炉支架和多个恒流源，炉支架上设有循环输送硅片的输送装置，炉支架沿所述输送装置入料端至出料端依次设有预热区、光照区和冷却区，光照区的正上方设有若干组并排设置的LED灯光照模组，每组LED灯光照模组由多个具有水冷...
该专利属于东莞市科隆威自动化设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东莞市科隆威自动化设备有限公司授权不得商用。

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