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一种抑制熔融硅液面振动的石英坩埚，其壁部和弯曲部的内表面在垂直方向和水平方向分布有微凹槽，微凹槽的宽度为0～500μm，微凹槽的深度为0～500μm；垂直方向微凹槽之间的间隔为5～20mm，水平方向微凹槽之间的间隔为0.1～5mm；凹槽的横...
该专利属于德令哈晶辉石英材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德令哈晶辉石英材料有限公司授权不得商用。

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