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本发明公开了一种基于机械刻划与金属催化刻蚀的硅微/纳结构制备方法，该方法包括以下步骤：S1、硅片预处理：将硅片表面清洗干净后烘干得到样品A；S2、集成贵金属纳米薄膜：在样品A表面沉积一层粘附层后，再在其表面集成贵金属纳米薄膜，获得样品B；S...
该专利属于西南交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过西南交通大学授权不得商用。

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