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本发明提供一种能够得到抗蚀膜的各层间的密合性优异、赋予高精细的图案、阻气性和耐溶剂性高的层叠体的图案形成方法以及使用其制造的电子设备。一种图案形成方法，其包括：使用组合物在支承体上形成膜的工序(1)；对膜的规定部分照射活性能量射线而使规定部...
该专利属于株式会社ADEKA所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社ADEKA授权不得商用。

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