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本实用新型公开了一种非晶带制备双流装置，包括一左一右呈阶梯状布置的一喷流坩埚和一溢流坩埚，喷流坩埚和溢流坩埚外分别绕设有一级熔炼线圈和二级熔炼线圈，溢流坩埚上连接有一旋转机构，而喷流坩埚上则连接有一位移机构，喷流坩埚底部中心喷流嘴正下方设置...
该专利属于浙江朝日科磁业有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江朝日科磁业有限公司授权不得商用。

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