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本发明公开一种基于改良温室连作黄瓜土壤微生态环境的硅肥施肥方法，属于农业施肥技术领域，所述方法包括如下步骤：(1)选择种植土壤为连续种植15年黄瓜的日光温室耕层土壤为种植黄瓜的土壤；(2)选择SiO2含量为100～300kg/hm...
该专利属于聊城职业技术学院所有，仅供学习研究参考，未经过聊城职业技术学院授权不得商用。

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