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本发明提供一种工艺控制监控PCM器件及监控方法，应用于依据预定设计规则制成的待检测芯片中过孔与导电层之间的短路检测，其中工艺控制监控PCM器件包括：第一导电层，所述第一导电层设置有一个或多个第一过孔以及设置有待检测的第一引出端；第二导电层，...该专利属于北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司授权不得商用。