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本发明提供化学机械抛光组合物，其包含：(a)胶态硅石颗粒，其经选自Mg、Ca、Al、B、Be以及它们的组合的金属离子进行表面改性，且其中所述胶态硅石颗粒的表面羟基密度为每平方纳米所述颗粒的表面积约1.5个羟基至约8个羟基；(b)阴离子型表面...
该专利属于嘉柏微电子材料股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过嘉柏微电子材料股份公司授权不得商用。

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