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提供一种石墨膜，其是在原料高分子膜的焙烧中，对自然的收缩·膨胀施加各种限制而得到的、厚度10nm～12μm、面积5×5mm...
该专利属于株式会社钟化所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社钟化授权不得商用。

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