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写极箱屏蔽结构制造技术
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下载写极箱屏蔽结构的技术资料
文档序号:16291129
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本申请公开了一种写极箱屏蔽结构。一种磁性元件可通常配置为至少构造有在箱屏蔽结构之中的写极,箱屏蔽结构由第一和第二侧屏蔽结构和第一和第二垂直屏蔽结构组成。写极可通过由不同材料的至少两个间隙层组成的多层间隙结构与箱屏蔽结构间隔。...
该专利属于希捷科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过希捷科技有限公司授权不得商用。
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