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本发明公开了一种电化学抛光溶液及电化学抛光石墨栅极的方法、石墨栅极，用以提供一种有效去除栅极表面污渍，提高栅极质量的电化学抛光溶液和抛光方法。所述电化学抛光溶液，包括：900～1000重量份的水；195～205重量份的碱金属的氢氧化物；49...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方真空技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方真空技术有限公司授权不得商用。