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一种横向绝缘栅双极型晶体管制造技术
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文档序号:16218279
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本发明属于半导体功率器件技术领域,具体的说是涉及一种横向绝缘栅双极型晶体管。本发明在传统阳极短路LIGBT结构的基础上,在器件漂移区内集电极一端形成隔离介质槽,在隔离介质槽另一端形成集成PMOS结构,并使集成PMOS结构与阳极短路N+区串联...
该专利属于电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过电子科技大学授权不得商用。
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