温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明的基板湿制程工艺方法，用于解决现有湿蚀刻过程中基板处理过程存在潜在损害的技术问题。包括：设置载台，通过载台固定基板；载台沿周向轨迹移动，进行基板输送；沿周向轨迹外侧设置处理设备；在基板输送过程中，载台调整基板的朝向和/或高度配合处理设...
该专利属于昆山国显光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山国显光电有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。