温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型提供一种用于冷却介质及半导体激光器的制冷系统，所述冷却介质用于为半导体激光器制冷，所述系统包括：制冷物质、冷却介质、储液装置、以及储气装置；其中，所述储液装置，用于储存冷却介质；所述储气装置，用于储存制冷物质，并将所述制冷物质导入...
该专利属于西安炬光科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安炬光科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。