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本发明涉及显示技术领域，公开了一种掩膜板及其制备方法、彩膜基板及其制备方法和裸眼3D显示装置及应用。该掩膜板(101)包括至少一个非透光区(102)和至少一个透光区(103)，其中，所述透光区(103)中设置有透光率不均匀的透光膜。由该掩膜...该专利属于东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司授权不得商用。