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本发明提供一种单晶硅的生长方法,是以柴氏拉晶法,将置于坩埚内的硅原料熔化而形成熔体,并提拉该熔体而使单晶硅生长的方法,其中,该硅原料包括表面生长氮化硅并掺杂氘的硅片及多晶硅碎块;在形成熔体时通入包括氩气的气体;以及在提拉步骤中施加磁场。本发...该专利属于上海新昇半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海新昇半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种单晶硅的生长方法,是以柴氏拉晶法,将置于坩埚内的硅原料熔化而形成熔体,并提拉该熔体而使单晶硅生长的方法,其中,该硅原料包括表面生长氮化硅并掺杂氘的硅片及多晶硅碎块;在形成熔体时通入包括氩气的气体;以及在提拉步骤中施加磁场。本发...