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本发明涉及一种NbN和NbB2的复合涂层。它是利用多靶磁控溅射技术，首先研究在N2环境下各工艺参数对NbN、NbB2单层膜性能的影响，找到制硬的主要因素为基底偏压和退火温度对薄膜涂层的影响。然后对NbN和NbB2的复合涂层结构进行实验设计并...
该专利属于天津师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津师范大学授权不得商用。

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