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用于基片的射束处理的过程气体增强制造技术
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下载用于基片的射束处理的过程气体增强的技术资料
文档序号:16113266
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描述了一种射束处理系统和操作方法。特别地,射束处理系统包括:具有喷嘴组件的射束源,该喷嘴组件被配置为通过喷嘴组件将主气体引入至真空容器,以便产生气体束,例如气体团簇束;以及可选地,电离器,其定位在喷嘴组件下游,并且被配置为电离气体束以产生经...
该专利属于TEL艾派恩有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过TEL艾派恩有限公司授权不得商用。
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