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一种磁场可调的磁控溅射涂层系统技术方案
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文档序号:16060693
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本实用新型公开了一种磁场可调的磁控溅射涂层系统,包括真空腔室、靶材、磁铁、步进电机、直流脉冲电源和PLC单元,靶材设置于真空腔室中,磁铁设置于靶材的后方,步进电机可以带动磁铁前后移动,直流脉冲电源具有负极、正极、电源控制端口和电源通信端口,...
该专利属于苏州吉恒纳米科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州吉恒纳米科技有限公司授权不得商用。
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