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本发明涉及一种立体光刻装置，其具有用于容纳自由流动的可光聚合材料的槽(2)，所述槽具有至少位于用于曝光的曝光区域中的透明槽底部(3)；曝光单元(8)，所述曝光单元(8)布置在槽下方，用于曝光具有用于在各种情况下在曝光区域内待形成的层的预定轮...
该专利属于义获嘉伟瓦登特公司;维也纳科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过义获嘉伟瓦登特公司;维也纳科技大学授权不得商用。

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