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本发明提供一种即便在具有高纵横比的槽的被处理体上也能够向该槽内均匀地喷射气体的气体喷射装置。而且，本发明的气体喷射装置(100)具有向被处理体(202)喷射气体的气体喷射单元部(1)。气体喷射单元部(1)具有第一锥体形状构件(3)和第二锥体...
该专利属于东芝三菱电机产业系统株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东芝三菱电机产业系统株式会社授权不得商用。

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