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本发明涉及一种膜的制造方法及其应用，所述膜的制造方法包括：在基材上涂布水性涂布液而形成涂布膜的工序，所述水性涂布液包含水、作为二氧化硅粒子的平均一次粒径为8nm以下的一种无孔二氧化硅粒子、表面活性剂，且pH为1.5～3.5；及将涂布形成的涂...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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