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本发明实施例公开了一种多晶硅薄膜的制作方法、薄膜晶体管和阵列基板。该多晶硅薄膜的制作方法包括：对基板上的非晶硅层进行第一次激光照射，结晶形成多晶硅层；在该多晶硅层上形成栅极绝缘层；采用连续激光器发出的激光对多晶硅层进行第二次激光照射，将该多...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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