温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种消除光刻工艺过程中显影残留的方法和显示面板的制作方法。消除光刻工艺过程中显影残留的方法包括：直立旋转残留有光刻胶的基板，通过清洗液冲洗基板来去除基板上残留的光刻胶。本发明提供的消除光刻工艺过程中显影残留的方法，冲洗过程中，基...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。