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本发明涉及一种用于溅射成膜装置中的靶材消耗状况监控系统及监控方法，该监控系统包括设于溅射成膜装置内的靶材，所述靶材的两个端部连接有重量测试仪，所述重量测试仪连接有中央控制系统；该监控方法通过重量测试仪测得靶材的实时重量并传送给中央控制系统，...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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