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本发明提供分析装置和分析方法。在分析装置中，确认测量光的经时性变化对吸光度造成的影响。分析装置(100、200)包括基准气体填充空间(Sc)、光谱生成部(75)和光谱比较部(76)。基准气体填充空间(Sc)形成在测量光(Lm)的光路上，以预...
该专利属于株式会社堀场制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社堀场制作所授权不得商用。

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