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本发明提供一种能可靠地判断出真空室内的气氛是否适合成膜的溅射装置及其状态判断方法。本发明的溅射装置的状态判断方法，其通过溅射靶(2)并在与该靶相对配置的基板(W)上形成薄膜的溅射装置(SM)，在对基板形成薄膜之前判断真空室内的气氛是否是适合...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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