温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种光斑布局结构、面形测量方法及曝光视场控制值计算方法，所述光斑布局结构包括多个测量光斑，所述多个测量光斑至少构成一组正交直线，所述正交直线上的测量光斑由中心向外发散布置，每条直线上的测量光斑数目至少为4个，所述测量光斑测量平面...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。