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本公开提供了一种制造半导体器件的方法、一种阵列基板和一种显示装置。制造半导体器件的方法包括：在基板上方沉积第一氧化物半导体层，将H2O2溶液喷洒到第一氧化物半导体层上；采用紫外光照射H2O2溶液，以促进其中的H2O2分解；以及将存在于第一氧...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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