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本发明公开了一种高分子薄膜与无机晶体涂层复合材料的制备方法，其特征在于其制备方法如下：１）将高分子薄膜浸入含２％～６％的丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸或丙烯酸的水溶液或丙酮溶液中，用钴源辐照，辐照剂量为８～２２ＫＧｙ，剂量率为０．１４～０．３８Ｇ...该专利属于中国科学院上海应用物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海应用物理研究所授权不得商用。
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本发明公开了一种高分子薄膜与无机晶体涂层复合材料的制备方法，其特征在于其制备方法如下：１）将高分子薄膜浸入含２％～６％的丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸或丙烯酸的水溶液或丙酮溶液中，用钴源辐照，辐照剂量为８～２２ＫＧｙ，剂量率为０．１４～０．３８Ｇ...