温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了用于处理基板的装置和方法。所述装置可以包括：处理腔室，所述处理腔室包括彼此联接以限定处理空间的上腔室和下腔室；支撑单元，所述支撑单元被设置在所述处理空间内以支撑基板；以及排气元件，所述排气元件被配置成从所述处理空间或所述处理空间...
该专利属于细美事有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过细美事有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。