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本发明提供了一种反射率分布测量系统及方法，属于光电子技术领域。该系统包括探测光产生装置、样品台、成像装置以及控制装置。样品台用于放置待测样品，成像装置位于样品台上放置的待测样品对于探测光产生装置发出的探测光束的反射光传播路径中，成像装置与控...
该专利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院激光聚变研究中心授权不得商用。

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