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本发明涉及反应性气体、其产生系统和使用其的产品处理。一种用反应性气体处理产品或表面的方法，其包括：通过由工作气体形成高电压冷等离子体(HVCP)而产生反应性气体；输送所述反应性气体远离HVCP至少5cm；随后，使所述产品或表面与所述反应性气...
该专利属于纳诺嘉德技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过纳诺嘉德技术有限责任公司授权不得商用。

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