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本发明公开了一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法，其特征包括：(1)制备陶瓷抛光盘，(2)配置碱性抛光液，(3)将氮化铝晶片用石蜡粘结在氧化铝基板上，放置于所制备的抛光盘上进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用铁氰化钾作为强氧化...
该专利属于衢州学院所有，仅供学习研究参考，未经过衢州学院授权不得商用。

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