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本发明提供了一种提高中高压腐蚀箔腐蚀层强度的腐蚀工艺方法，将光箔经浓度0.1～10N的NaOH水溶液处理后，在浓度2.0～15N的腐蚀液中添加0.02～2wt％高分子添加剂并进行电化学反应，后经浓度0.1～10N的化学腐蚀液处理，再经0.1...
该专利属于扬州宏远电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过扬州宏远电子有限公司授权不得商用。

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