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一种清洗半导体器件的清洗槽，包括槽体，所述槽体的顶端一侧内边缘上固结有支撑架，所述槽体的一侧面底端上固结有出液管，所述槽体的一侧面中间部位固结有循环进液管和循环出液管，所述循环进液管置于循环出液管的斜上方，所述循环进液管和循环出液管通过液压...
该专利属于苏州羽美尚精密机械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州羽美尚精密机械有限公司授权不得商用。

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