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本发明公开了真空蒸镀掩膜、掩膜制备方法以及蒸镀图案。该蒸镀掩膜包括：掩膜基体，所述掩膜基体具有掩膜镂空图案；以及固定件，所述固定件设置在所述掩膜基体的表面上。该蒸镀掩膜在真空蒸镀的过程中，可以与蒸镀基板之间较为紧密的贴合，进而可以缓解由于阴...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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